Obiectivum Microscopii Sinensis M Plan Apo 10x | Apochromaticum, Campum Clarum | Ad Fabricationem et Officinam Inspectionis Semiconductorum et PCB

Obiectivum Microscopii M Plan Apo 10x | Apochromaticum, Campum Clarum | ad Inspectionem Semiconductorum et PCB Imago Praecipua

Objectivum Microscopii M Plan Apo 10x | Apochromaticum, Campum Clarum | ad Inspectionem Semiconductorum et PCB

Nostrum M Plan Apo 10x est obiectivum microscopii gradus industrialis, correctione infinita, ad observationem in campo claro summae efficaciae cum illuminatione coaxiali fabricatum. Designum opticum apochromaticum (APO) et tunicas antireflexas praestantes incorporat, claritatem imaginis exceptionalem, contrastum altum, et reproductionem veram colorum per spectrum visibile (380-700nm) praebens. Cum amplo campo visionis circulum imaginis usque ad Ø40mm sustinente, instrumentum ideale est ad applicationes inspectionis et analysis exigentes.

-Correctio Apochromatica Superior: Aberrationes chromaticas et sphaericas significanter reducit, ut acies ab margine ad marginem et fidelitas colorum accurata sit.

- Alta Resolutio et Apertura Numerica: Cum Apertura Numerica (NA) 0.28, altam resolutionem circiter 1.2μm assequitur, subtilitates revelans.

- Longa Distantia Operativa: Diameter Rotarius 32 mm amplum spatium instrumentis et configurationibus exemplorum complexis praebet.

- Amplum Campum Planum et Alta Transmissio: Imaginem nitidam et uniformiter claram per totum campum visionis praestat, ad claritatem et contrastum optimizatam.

Mitte nobis inscriptionem electronicam

Detalia Producti

Etiquettae Productarum

Amplificatio	Decies
Focus	40mm
Apertura Numerica (NA)	0.28
Distantia Laboris (DL)	32mm
Ambitus Longitudinis Undae	380 - 700 nm
Resolutio	1.2 µm
Distantia Parfocalis	95mm